通用去除劑

在去膠發(fā)生困難的情況下（例如在密集的等離子蝕刻或?yàn)R射之后），超聲或兆聲清洗會(huì)對(duì)去除光刻膠帶來(lái)很大的幫助。但是，在此過(guò)程中必須保護(hù)襯底上的敏感結(jié)構(gòu)，否則將其破壞如下圖1所示，所以我們建議這種帶有高深寬比的結(jié)構(gòu)的樣品最好使用兆聲輔助而不是超聲輔助處理。由于溶解的光刻膠的含量增加，去膠劑隨著長(zhǎng)時(shí)間的發(fā)展其去膠效果在逐漸變?nèi)酢＜词谷晕催_(dá)到理論上的飽和極限（遠(yuǎn)高于50％的固含量），使用過(guò)溶液會(huì)隨著顆粒的富集并變得不透明，因此不再適合進(jìn)行重復(fù)清洗。常見(jiàn)的做法是級(jí)聯(lián)清洗。在此過(guò)程中，去除劑用于三個(gè)不同的清洗步驟。將樣品放在第一個(gè)溶液池中，此步驟中幾乎完全去除光刻膠殘留物。然后將樣品轉(zhuǎn)移到第二個(gè)溶液池中，然后轉(zhuǎn)移到第三個(gè)槽中，在最后一個(gè)步驟后用去離子水沖洗干凈。一旦達(dá)到預(yù)定的溶解能力，就將第一個(gè)浴液丟棄，將第二個(gè)和第三個(gè)浴液向上移動(dòng)一個(gè)位置。

圖1 LIGA工藝中使用超聲40k Hz（左圖）以及兆聲1M Hz處理后的結(jié)構(gòu)損壞情況

除此之外的功能還可以通過(guò)強(qiáng)氧化酸來(lái)實(shí)現(xiàn)，例如王水，食人魚(yú)，硫酸或硝酸。這些酸用于最終清潔。但是除了環(huán)境保護(hù)方面（廢酸的處理），這些混合物通常不僅侵蝕光刻膠，而且也會(huì)腐蝕襯底表面的其他材料。

氧等離子體去膠機(jī)

在很多情況下，由于后續(xù)的工藝如過(guò)高的溫度、長(zhǎng)時(shí)間干法刻是、高劑量的離子注入后都會(huì)導(dǎo)致光刻膠膜的交聯(lián)度太高或者光刻膠膜發(fā)生變性甚至碳化，從而無(wú)法利用濕法除光刻膠，這時(shí)候我們可以采用氧等離子去膠機(jī)進(jìn)行去膠。 需要注意，市面上常見(jiàn)的等離子去膠機(jī)有射頻和微波等離子去膠機(jī)兩種。兩者的本質(zhì)區(qū)別是等離子的激發(fā)方式不一樣，對(duì)應(yīng)的反應(yīng)方式也是有區(qū)別的，射頻等離子去膠機(jī)除了氧等離子與碳?xì)浠衔锓磻?yīng)外，還伴隨這比較重的離子轟擊樣品表面，會(huì)有一定的物理?yè)p傷，在光電子器件等對(duì)損傷敏感的應(yīng)用中需要注意。另外，氧等離子體有可能會(huì)氧化襯底或者襯底表面的其他材料如鋁膜等。