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磁控濺射鍍膜粘附力不好如何解決?

點(diǎn)擊量:995 日期:2023-09-07 編輯:硅時代

磁控濺射(Magnetron Sputtering)是一種常見的物理氣相沉積 (PVD) 工藝,是制造半導(dǎo)體、磁盤驅(qū)動器和光學(xué)膜層的主要薄膜沉積方法。磁控濺射具有速度快、溫度低、損傷小等優(yōu)點(diǎn),其關(guān)鍵特點(diǎn)是使用一個磁場來控制并增強(qiáng)濺射過程。 

工作原理是:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛倫茲力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動,該電子的運(yùn)動路徑很長。

我們經(jīng)常會發(fā)現(xiàn)鍍的膜層粘附力不強(qiáng),可能是以下原因造成的.

(1)鍍件除油脫脂不徹底。應(yīng)加強(qiáng)鍍前處理

(2)真空室內(nèi)不清潔。應(yīng)清洗真空室。值得注意的是,在裝靶和拆靶的過程中,嚴(yán)禁用手或不干凈的物體與磁控源接觸,以保證磁控源具有較高的清潔度,這是提高膜層結(jié)合力的重要措施之一。

(3)夾具不清潔。應(yīng)清洗夾具。

(4)底涂料選用不當(dāng)。應(yīng)更換涂料。

(5)濺射工藝條件控制不當(dāng)。應(yīng)改進(jìn)濺射鍍工藝條件。

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