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MEMS器件最常用的加工方法
點(diǎn)擊量:1556 日期:2022-03-26 編輯:硅時代
3、LIGA:即光刻、電鑄及塑鑄,主要包括三個工藝步驟,X光深度同步輻射光刻、電鑄制膜和注膜復(fù)制。
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